hth赞助:成绎半导体请求开关隔离度的改善电路专利有效地提高开关的隔离度
发布时间:2026-03-19 17:28:54 来自:hth赞助 浏览次数: 1
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国家知识产权局信息数据显现,成绎半导体(姑苏)有限公司请求一项名为“开关隔离度的改善电路、开关电路及集成电子开关”的专利,公开号CN121664163A,请求日期为2025年11月。
专利摘要显现,本发明公开了一种开关隔离度的改善电路、开关电路及集成电子开关,所述改善电路经过在最靠近接纳端的榜首主MOS管衬底处,增设一路信号泄放支路,该信号泄放支路的下拉MOS管的输出端接地,并使用泄放操控端在主途径切断时操控下拉MOS管导通,可以在主途径切断时,将由寄生电容引起的串扰信号经过信号泄放支路高效泄放至地,然后防止串扰信号向主信号输出端传递,有效地提高开关的隔离度。
天眼查资料显现,成绎半导体(姑苏)有限公司,成立于2021年,坐落姑苏市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本514.035万人民币。经过天眼查大数据分析,成绎半导体(姑苏)有限公司共对外出资了4家企业,参加招投标项目1次,专利信息12条,此外企业还具有行政许可5个。
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